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化学论文_二维单层MoSi_(2)X_(4)(X=N, P, As)的电子结构及光学性质研究
 
更新日期:2022-02-09   来源: 电子政务   浏览次数:37   在线投稿
 

核心提示:文章摘要:采用平面波超软赝势方法研究了二维单层MoSi2X4(X=N, P, As)的稳定性,电子结构和光学性质.研究结果显示,基于单层

 

文章摘要:采用平面波超软赝势方法研究了二维单层MoSi2X4(X=N, P, As)的稳定性,电子结构和光学性质.研究结果显示,基于单层MoSi2N4的两种同分异构体M1和M2所构建的六种晶体结构具有较好的动力学稳定性.通过能带和有效质量的计算,单层MoSi2N4在MoSi2X4(X=N, P, As)六种晶体结构中显示出最宽的间接带隙和最高的载流子迁移率.随后带边电位的计算结果表明,单层MoSi2N4带边势分别为M1:-0.368 V,1.416 V、M2:-0.227 V,1.837 V,其结果相较于MoSi2P4和MoSi2As4导带边电位更负,价带边电位更正,是六种晶体结构中最适合用作光催化剂的材料.同时,光吸收谱的计算结果显示,单层MoSi2N4的光学吸收表现出明显的各向异性,在可见光和紫外光波段内具有较强的光吸收能力,说明其在可见光催化领域有着潜在的应用前景.这些结果为进一步深入研究二维单层MoSi2N4在光催化水解领域的应用提供了理论指导.

文章关键词:

项目基金:国家自然科学基金(No.51472081)资助,

论文作者:龚雪1 万锋达1 段汪洋1 

作者单位:1. 湖北工业大学芯片产业学院 

论文分类号: TQ116.2;O643.36;O644.1

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